Semicera Semicera مختلف اجزاء اور کیریئرز کے لیے خصوصی ٹینٹلم کاربائیڈ (TaC) کوٹنگ فراہم کرتا ہے۔Semicera Semicera معروف کوٹنگ کا عمل ٹینٹلم کاربائیڈ (TaC) کوٹنگز کو اعلی طہارت، اعلی درجہ حرارت کے استحکام اور اعلی کیمیائی رواداری حاصل کرنے کے قابل بناتا ہے، SIC/GAN کرسٹل اور EPI تہوں کی مصنوعات کے معیار کو بہتر بناتا ہے۔گریفائٹ لیپت TaC susceptor)، اور کلیدی ری ایکٹر کے اجزاء کی زندگی کو بڑھانا۔ ٹینٹلم کاربائیڈ TaC کوٹنگ کا استعمال کنارے کے مسئلے کو حل کرنے اور کرسٹل کی ترقی کے معیار کو بہتر بنانے کے لیے ہے، اور Semicera Semicera نے ٹینٹلم کاربائیڈ کوٹنگ ٹیکنالوجی (CVD) کو بین الاقوامی اعلی درجے کی سطح تک پہنچاتے ہوئے کامیابی حاصل کی ہے۔
ترقی کے سالوں کے بعد، Semicera کی ٹیکنالوجی کو فتح کر لیا ہےCVD TaCآر اینڈ ڈی ڈیپارٹمنٹ کی مشترکہ کوششوں سے۔ SiC wafers کے بڑھنے کے عمل میں نقائص پیدا ہونا آسان ہیں، لیکن استعمال کے بعدٹی سی، فرق اہم ہے۔ ذیل میں ٹی اے سی کے ساتھ اور اس کے بغیر ویفرز کا موازنہ کیا گیا ہے، نیز سنگل کرسٹل کی نشوونما کے لیے سیمیسیرا کے حصوں کا۔
TaC کے ساتھ اور بغیر
TaC استعمال کرنے کے بعد (دائیں)
اس کے علاوہ، Semicera کیٹی سی لیپت مصنوعاتکے مقابلے میں ایک طویل سروس کی زندگی اور زیادہ اعلی درجہ حرارت مزاحمت کی نمائشایس سی کوٹنگز.لیبارٹری کی پیمائش نے یہ ظاہر کیا ہے کہ ہمارےٹی اے سی کوٹنگزمسلسل 2300 ڈگری سیلسیس تک درجہ حرارت پر طویل مدت تک کارکردگی کا مظاہرہ کر سکتا ہے۔ ذیل میں ہمارے نمونوں کی کچھ مثالیں ہیں:
